技术特点:● 自动运行,干进干出 ● 设备占地面积小 ● 去离子水减少高达80% ● 工艺介质减少高达80% ● 封闭式系统 ● 可柔性多腔室组合 | 设备用途:● 显像工艺 ● 刻蚀工艺 ● 清洗工艺 ● 剥离工艺 ● 可选配O3清洗 |
技术特点:● 自动运行,干进干出 ● 设备占地面积小 ● 去离子水减少高达80% ● 工艺介质减少高达80% ● 封闭式系统 ● 可柔性多腔室组合 | 设备用途:● 显像工艺 ● 刻蚀工艺 ● 清洗工艺 ● 剥离工艺 ● 可选配O3清洗 |
技术特点:● 自动运行,干进干出 ● 设备占地面积小 ● 去离子水减少高达80% ● 工艺介质减少高达80% ● 封闭式系统 ● 可柔性多腔室组合 | 设备用途:● 显像工艺 ● 刻蚀工艺 ● 清洗工艺 ● 剥离工艺 ● 可选配O3清洗 |